



零件號:E0276060139A
基板厚度:0.11+/-0.03mm
層數:2層
材質:SI10U
最小跡線:180微米
最小空間:30微米
最小孔徑:0.15毫米
表面處理:ENEPIG
組織尺寸:2.3*1.96mm
暴力曾經是黃金標準IC載板您可以利用該設計來滿足當今電子系統的標準。
當你考慮從晶圓級封裝到邊緣設備的一切時,生產路線包括材料科學、表面工程和高精度成像,這對MEMS、高級邏輯和RF模塊尤為重要。
為了設計一種能在真實世界壓力下工作的基板,第一步是選擇合適的資料並定義堆疊。
領先IC載板業內製造商將每種資料都符合IPC和JEDEC標準,確認了脫氣、濕度應力下的可靠性和熱衝擊,以保持MEMS的完整性。 圖案和通孔形成IC載板
高密度互連需要受控的光刻和幹式通孔形成。
IC載板光刻:用於MEMS訊號佈線和功率傳輸的精細線/空間的高解析度亞10µm對準精度。
雷射和機械鑽孔:CO生產的微孔(50–75µm) ₂ 以及紫外雷射器; 多層互連的堆疊和交錯解決方案。
去毛刺和銅活化:电浆或化學處理提供清潔的通孔壁,並在電鍍前沉積堅固的晶種層。
一家成熟的製造商IC載板還將確保緊密的配准和低通孔電阻,同時最大限度地减少串擾和熱漂移敏感的MEMS通道。
金屬化的質量是電力效能的關鍵决定因素。
電鍍:在緻密陣列上電鍍均勻的銅厚度和保持平面度對於MEMS對準和倒裝晶片凸塊至關重要。
蝕刻:在蝕刻劑控制的過程中,邊緣定義得以保留,導體上的底切均勻性受到限制。
線/空間能力:對於高級封裝,整個面板的線/空間容量低至10/10µm,以確保工藝的可重複性。
優化生物過程以减少偏斜和損失,從而即使在高頻操作期間也能保持MEMS訊號的清潔。
多層基板是通過熱和壓力迴圈形成的。 順序層壓:逐步構建電介質和銅層,以實現具有埋孔和盲孔的複雜堆疊。
樹脂流動控制:提供無間隙滲透,保護MEMS相關腔體和矽通孔免受污染。
翹曲控制:平衡堆疊、銅質對稱和定制玻璃織物保持面板平整,以確保高品質的恐慌。
全方位服務IC載板供應商對每個面板和批次的翹曲進行處理,以確保MEMS的放置和校準。
表面處理和裝配準備
最終的精加工使基板為堅固的互連和長期可靠性做好了準備。
ENEPIG:類似高貴,但適用於引線鍵合、倒裝晶片和細間距BGA; 非常適合MEMS感測器陣列和混合堆疊。
嚴格IC載板製造商將統計程序控制與全批次可追溯性相結合,以實現均勻的MEMS效能和加速的故障分析。
IC載板使我們與眾不同的功能
以下是對最依賴的功能的簡要概述。
加速新產品導入:與批量生產具有相同工藝視窗的快速原型,在不影響質量的情况下加快MEMS開發。
與通常的封裝相比,MEMS需要更嚴格的控制平面度、污染和電雜訊。 一個專業IC載板製造商提供:
生產IC載板涉及精密資料、微圖案化和嚴格的可靠性控制:MEMS更是如此。
好IC載板製造商可以通過嚴格的堆疊設計、完整性、低損耗銅和堅固的表面處理來提供效能。
通過強調MEMS和高密度集成,客戶可以獲得穩定的電力效能、清潔的組裝和可靠的現場操作。